產(chǎn)品詳情
品名:鈦靶
標(biāo)準(zhǔn):ASTM B348,ASTM B381,AMS4928
生產(chǎn)工藝:鍛造
規(guī)格:直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產(chǎn)品描述:為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
靶材應(yīng)用:
鈦靶
標(biāo)準(zhǔn):ASTM B348,ASTM B381,AMS4928
生產(chǎn)工藝:鍛造
規(guī)格:直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
產(chǎn)品描述:為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
靶材應(yīng)用:
濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
靶材分類:
根據(jù)形狀可分為:方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數(shù):
牌號(hào):
TA1=GR2, TA2=GR2, TA3=GR3, TA4=GR4(工業(yè)純鈦), TA7=GR6(鈦-5AL-2.5Sn(錫))
TC4=GR5(鈦-6AL-4v ), TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18(鈦-3AL-2.5v),
TA8=GR16(鈦-0.05pd), TA10=GR12(鈦- 0.3mo-0.8ni)
標(biāo)準(zhǔn):ASTM B348,ASTM B381,AMS4928
鈦圓靶規(guī)格:直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規(guī)格:厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
鈦管靶規(guī)格:直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)
亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。靶材分類:
根據(jù)形狀可分為:方靶、圓靶、異型靶
鈦靶、鈦靶塊、鈦板靶參數(shù):
牌號(hào):
TA1=GR2, TA2=GR2, TA3=GR3, TA4=GR4(工業(yè)純鈦), TA7=GR6(鈦-5AL-2.5Sn(錫))
TC4=GR5(鈦-6AL-4v ), TA9=GR7 鈦-0.2Pd(鈀), 半TC4=GR9=TA18(鈦-3AL-2.5v),
TA8=GR16(鈦-0.05pd), TA10=GR12(鈦- 0.3mo-0.8ni)
標(biāo)準(zhǔn):ASTM B348,ASTM B381,AMS4928
鈦圓靶規(guī)格:直徑100*45、100*40、80*40、72*20(單位:mm)
鈦板靶規(guī)格:厚度8~20*100~300*500~2000(單位:mm)
管靶規(guī)格:直徑70*7、70*9、76*10(單位:mm)