產(chǎn)品詳情
(1) 加速管。為了獲得更高的能量(也就是運(yùn)動(dòng)速度),哈默納科定位掃描諧波CSF-11-50-2A-R正離子還需要在加速管中的電場(chǎng)下進(jìn)行加速。
(2) 掃描系統(tǒng)。注入機(jī)離子束斑約1~3cm2,需要通過(guò)掃描覆蓋整個(gè)硅片。可以通過(guò)固定硅片,移動(dòng)束斑,或者相反操作進(jìn)行掃描。掃描系統(tǒng)有靜電掃描、機(jī)械掃描、混合掃描和平行掃描。
(3) 工藝腔。離子束注入在工藝腔中進(jìn)行。哈默納科定位掃描諧波CSF-11-50-2A-R一般工藝腔包括掃描系統(tǒng)、硅片裝卸終端臺(tái)、硅片傳輸系統(tǒng)、檢測(cè)系統(tǒng),以及控制溝道效應(yīng)的裝置。
離子注入?yún)?shù)主要有劑量和射程。劑量是單位面積硅片注入的離子數(shù),單位是原子每平方厘米(或離子每平方厘米)。射程是離子注入過(guò)程中,離子穿入硅片的總距離。注入機(jī)的能量越高,哈默納科定位掃描諧波CSF-11-50-2A-R則雜質(zhì)原子穿入硅片深度越大。