產(chǎn)品詳情
濕氧氧化速率快,但是表面有硅烷醇和光刻膠沾潤(rùn)不良,光刻時(shí)易浮膠,并能引起雜質(zhì)的再分布日本HD精密點(diǎn)膠機(jī)諧波CSF-11-30-2A-R若在濕氧氧化前先通一些時(shí)間干氧,有利于保持硅片表面的完整性日本HD精密點(diǎn)膠機(jī)諧波CSF-11-30-2A-R和生長(zhǎng)高質(zhì)量的二氧化硅,提高其間的表面性能;在濕氧氧化后再通入一段時(shí)間的干氧,可使?jié)裱跎L(zhǎng)的二氧化硅趨于干氧氧化膜的性質(zhì),同時(shí)表面的硅烷醇或表面吸附的水分子轉(zhuǎn)變成硅氧烷(Si-O-Si),從而改善了二氧化硅表面與光刻膠的接觸,使光刻時(shí)不易日本HD精密點(diǎn)膠機(jī)諧波CSF-11-30-2A-R浮膠。這樣做充分利用了干氧氧化和濕氧氧化的優(yōu)點(diǎn),解決了生長(zhǎng)速率和工藝質(zhì)量的矛盾。